1、專利再頒程序
美國專利的再頒程序是指允許專利權人從專利正式授權日開始重新申請啟動該申請的審查。這樣,專利權人可以修改當前授權專利中的錯誤,或擴大或縮小權利要求的保護範圍。
專利再頒程序是修正授權專利錯誤的重要手段。同時,通過再頒申請可以擴大權利要求保護範圍,也是為專利訴訟和許可事務服務的常見策略。需要註意的是,如果是專利權人希望擴大權利要求保護範圍,需要在專利授權日之後的兩年內提出再頒請求。
2、專利的復審程序
專利復審程序也是授權後程序,美國法律授權USPTO在壹定條件下對專利重新審查。根據2012年的AIA法案,復審包含單方復審(EPR)和多方復審(IPR)以及授權後復審程序(PGR)。
單方復審程序是在請求人(權利人或者第三方)申請復審後,請求人不再參與後續相關程序,而是由中央再審單位(GRU)的三位專利審查員組成的合議組主要通過書面審查的方式進行的復審程序,復審理由僅限於新穎性和創造性理由,證據僅限於在先專利和公開出版物。
多方復審程序與授權後復審程序均由專利審判及上訴委員會進行,並且在這些程序中引入了審判程序(Trial)和證據發現程序(Discovery)。不同於單方復審,多方復審程序與授權後復審程序是請求人和權利人全程參與審判和證據發現的壹種復審程序。
多方復審程序必須在專利授權的9個月後或者授權後復審程序(PGR)終止後才能啟動。多方復審程序具有單方復審程序相同的理由和證據限制,即基於新穎性和創造性理由,並且限於在先專利或公開出版物。
授權後復審程序與多方復審程序有諸多類似,二者主要不同點在於:壹是授權後復審程序必須在專利授權後的9個月內提出;二是提出的理由不同,授權後復審程序允許提出任何專利法上可以提出的專利復審理由,包括:基於出版物公開或使用公開而對新穎性和創造性提出的復審理由、本領域人員不能實施、說明書不支持或關於保護主題的復審理由等。
附:再頒程序與復審程序的比較
再頒程序與復審程序均可用於修正專利授權缺陷和錯誤。不同的是,再頒程序是專利權人對專利權的自我修正;復審程序則是為了修正USPTO在審查中造成的專利授權缺陷和錯誤。再頒程序只能由專利權人啟動;復審程序則可以由多方當事人啟動,包括專利權人、非專利權人等。