导读

《氧化铟锡（ITO）材料专利分析评议报告》，报告从ITO产业发展状况、重点技术专利、重点申请人等多方面对ITO材料相关技术的专利价值、市场潜力和法律地位进行全方位的评估，为国内创新主体在ITO材料领域的技术创新、专业人才引进、产学研合作等方面提供科学指引。

正文

报告中指出氧化铟锡是一种n型半导体材料，以其高导电率、优异的可见光透过率、较强的机械硬度和良好的化学稳定性而广泛应用于液晶显示器、平板显示器、触摸屏等多种电子产品中。目前，ITO靶材的制备技术几乎被日本和韩国企业所垄断，其中日矿金属和三井矿业在高端TFT-LCD市场用ITO靶材方面占据主导地位。

另外报告显示目前中国ITO靶材供应超一半左右依赖进口，国内本土厂商生产的ITO靶材主要供应中低端市场，仅占国内市场30%的份额;而高端TFT-LCD、触摸屏用ITO靶材几乎全部从日本、韩国进口，占据了70%的市场份额。

同时报告显示在专利布局方面，日本、韩国及中国企业非常注重在ITO材料领域的专利布局，三个国家的申请人占据了申请量前二十名。全球近30年在有机发光二极管、磁控溅射法制备ITO薄膜、光敏电阻器等方面的专利布局较多；而国内在有机发光二极管、磁控溅射法制备ITO薄膜、太阳能异质结电池等方面的专利布局较多。

氧化铟锡(ITO)材料在全球电子材料市场中占有极其重要的地位，而中日韩三国在该领域的技术发展和专利布局尤为关键。鉴于当前市场和技术发展趋势，建议国内企业加大研发投入，强化自主创新能力，同时加强国际技术合作和交流，以提升在全球ITO材料市场的竞争力。